南京NIR-MT60系列近红外半导体检查显微镜厂家-苏州欧米特光电科技有限公司

产品详情

NIR-MT60系列近红外半导体检查显微镜

工业检测需要利用红外光的穿透性来对芯片内部进行更加清晰准确的非破坏检测和分析，这在光通讯领域、先进封装、晶圆制造中是必需的检测技术。由欧米特自主研发的NIR-RX系列工业红外显微系统是国内领先的近红外检测设备，使用的红外波长更长，穿透硅片的能力更强，成像更加清晰，是工业检测领域强有力的解决方案。

近红外一般定义为700-1600nm波长范围内的光线，由于硅传感器的上限约为1100nm，砷化铟镓（InGaAs）传感器是在近红外中使用的主要传感器，可覆盖典型的近红外频带。大量使用可见光难以或无法实施的应用可通过近红外成像完成。当使用近红外成像时，水蒸气、雾和硅等特定材料均为透明，因此红外显微检测被应用于半导体行业的各个方面。

采用T型屋盖结构原理，底侧面粗狂柱形设计，作为主要的承重和抗侧力部件，承担了较大的竖向与水平载荷，极大的减小了外力撞击下引起的不稳定性。背面凹形部嵌入全新设计灯箱，巧妙打造展翅造型，极富想象力与视觉美观度。整机采用特殊工艺喷粉，集防护、装饰、耐磨、耐溶剂于一体。

专用红外线（IR）物镜为近红外线数码成像推出交钥匙解决方案

微电子器件的典型故障分析方案要求能够通过硅片无损检查电路图，同时保持成品的机械整合性。无损技术（如近红外光谱中的显微成像）可直接通过厚度不超过650μm的硅片进行检测。应用包括产品内部的短路检查（烧蚀标记、压力指标等）、键合对准（薄键合电路）、电气试验后检查（任何失效）和芯片损坏（材料缺陷、污染等）。

大多数失效分析和研发实验室对缺陷测量、报告创建和图像存档的要求都需要数字解决方案。鉴于本应用的固有性质，真实对比度极低，必须通过图像分析软件进行优化。照明的不均匀性会导致图像四角向中心渐晕或变暗，必须采用数字手段从实时视图和捕获图像中予以消除。反射光显微镜非常适合于从上方照亮样品，但透射光IR设计为通过硅片从样品下方照亮样品，从而增强对比度。因此，透射光尤其适用于通过硅片检查图形对准或框标。

光学系统	无限远色差校正光学系统
观察方式	明场/红外
观察筒	倒像，无限远铰链三目观察筒，瞳距调节范围：50mm～76mm；两档式分光比：100：0,50：50
	正像，无限远铰链三通观察筒，瞳距调节：50mm~76mm，两档分光比双目:三目=100：0,0：100
目镜	高眼点大视野平场目镜SWH10X23mm 视度可调
	高眼点大视野目镜SWH10X-H/25mm，视度可调
物镜	近红外物镜（5X、10X、20X、50X 、100X）
物镜转换器	5孔可调中明暗场手动物镜转换器（带DIC插槽）.
	5孔编码型可调中明暗场物镜转换器（带DIC插槽），编码型物镜转换器将显微镜的硬件设置与欧米特图像分析软件整合在一起。屏幕上显示物镜的放大倍率，同时切换倍率时也能自动调整软件中记录的校准值，杜绝忘记切换软件倍率造成的测量错误.
	5孔明暗场电动物镜转换器（电动/带DIC插槽）.
机架	反两用机架，低手位粗微同轴调焦机构，粗调行程27mm，微调精度0.001mm。带有防止下滑的调节松紧装置和随机上限位装置。带平台位置上下调节机构，更大样品高度40mm
载物台	NIR-MT40	6X4英寸载物台，平台面积 310*240mm，移动行程：150mmX100mm机械平台，X、Y方向同轴调节；
	NIR-MT86	8X7英寸载物台，台面尺寸300*275mm，移动行程：200mmX170mm机械平台，X、Y方向同轴调节；
	NIR-MT60	6X6英寸平台，平台面积 450*240mm，移动行程：158mmX158mm机械平台，X、Y方向同轴调节；含快速移动装置
	NIR-MT80	8X8英寸平台，平台面积 525*330mm，移动行程：210mmX210mm机械平台，X、Y方向同轴调节；含快速移动装置
	NIR-MT12	14X12英寸载物台，平台面积 760430mm，玻璃台面310418mm，移动行程：400mmX300mm机械平台，X、Y方向同轴调节；含快速移动装置
上照明系统	红外反射照明器，带可变孔径光阑，视场光阑，中心均可调；带明场、红外切换装置；带滤色片插槽与偏光装置插槽；12V100W 红外专用卤素灯
下照明系统	自适应宽电压，透射灯室，单颗大功率10WLED，暖色
滤色片	带通滤色片（1100nm、1200nm、1300nm）
摄像接口	1X 摄像接筒，C 型接口，可调焦
其他附件	红外高清成像系统、USB3.0电脑版成像系统，相机（30万、130万、400万等）
	高精度测微尺，格值0.01mm
	摄影摄像附件：0.65X、0.5X C接口，可调焦；